精密制版 制版辅助材料 油墨 干膜
LEF100 镭射系列干膜光阻剂
时间:2021/5/22

LEF100 镭射系列干膜光阻剂是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂,应用于内外层线路制作,特别适用于265nm和405nm激光直接成像系统。

特色及优点

高解析度 -1-2 mil 线宽/线距

曝光速度快

附着力好

抗化学性好

性能稳定

项目
单位
LEF112
LEF115
备注
厚度
μm
30
38

感度*1
mj/cm2
16
24

*短显影时间
sec.
20
22

附着力*1*2(L/S=X/250)
μm
30
40

解析度*1*2(L/S=X/X)
μm
25
30

盖孔孔径
μm
//
6.0

*1:LEF115(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺,**硬化格数的中心值的曝光能量,海圣平行光曝光机制作(UVE-HSP5K-11

*2:1wt%Na2CO3,30℃,*短显影时间x2

*3:分辨率、解析度以及显影后图像。



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