LEF100 镭射系列干膜光阻剂是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂，应用于内外层线路制作，特别适用于265nm和405nm激光直接成像系统。
特色及优点
高解析度 -1-2 mil 线宽/线距
曝光速度快
附着力好
抗化学性好
性能稳定
项目
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单位
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LEF112
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LEF115
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备注
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厚度
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μm
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30
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38
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感度*1
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mj/cm2
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16
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24
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最短显影时间
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sec.
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20
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22
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附着力*1*2(L/S=X/250)
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μm
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30
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40
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解析度*1*2（L/S=X/X）
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μm
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25
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30
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盖孔孔径
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μm
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//
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6.0
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*1:LEF115(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺，推荐硬化格数的中心值的曝光能量，海圣平行光曝光机制作（UVE-HSP5K-11）
*2:1wt%Na2CO3,30℃，最短显影时间x2
*3:分辨率、解析度以及显影后图像。
